CMP연구소
(주)에이스나노켐은 고객의 이익을 먼저 생각하고 기업의 가치를 추구하겠습니다.
- 2015.12 특허출원 : 알루미늄-함유 기판 연마용 슬러리
11 반도체 Oxide CMP 슬러리 해외 상용화 성공
06 한국생산기술연구원 - 녹색전환 기술지원사업과제 선정
- 2014.08 12” 웨이퍼 에지 연마 공정 변경 슬러리 상용화 성공
08 8” 웨이퍼 에지 연마용 슬러리 상용화 성공
- 2013.11 특허출원 : 이온교환방법을 이용한 실리카졸 제조시 발생되는 염산수용액의 재활용에 관한 방법
10 중기청 - 기술혁신개발과제 선정
08 8” 웨이퍼 경면 연마용 슬러리 상용화 성공
- 2012.08 중기청 - 건강관리 R&D 연계지원사업 과제 선정
- 2011.03 대구대 산학연 공동기술개발사업 과제 선정
- 2010.10 내화재용 고농도 실리카 개발
06 반도체 Oxide CMP 슬러리 상용화 성공
- 2009.12 12” 웨이퍼 에지 슬러리 상용화 성공
- 2008.07 반도체 팩키징 웨이퍼 후면(Backside) 연마용 슬러리 개발
- 2005.11 반도체 Oxide CMP 슬러리 상용화 성공
- 2004.11 특허출원 : 텅스텐-화학적 기계적 연마에 유용한 슬러리 및 그 제조방법
06 특허출원 : 큰 입자로 구성되는 반도체 연마용 콜로이달 실리카 슬러리 및 그 제조방법
- 2001.03 반도체 Oxide CMP 슬러리 국산화 성공
- 2000.02 기업부설 연구소 설립(한국산업기술진흥협회)
Home
